Аналитический и технологический исследовательский центр "Высокие технологии и наноструктурированные материалы" ФФ
Число публикаций по квартилям JIF
i
Число публикаций по квартилям CiteScore
i
Комплексный балл публикационной результативности
1.983
Число публикаций в журналах по CiteScore
i
0
Число публикаций в наивысших 10 процентилях CiteScore
0
Число публикаций в наивысшем процентиле CiteScore
0
Количество ВКР студентов, защищенных под руководством научных работников
0
Количество защищенных кандидатских диссертаций
0
Количество защищенных докторских диссертаций
0
Количество защищенных PhD диссертаций
10 наиболее цитируемых публикаций
i
1
Raman scattering studies of low energy Ar+ ion implanted monocrystalline silicon for synchrotron applications
Нет цитирований в Scopus.
2
Characterization of Structure, Morphology, Optical and Electrical Properties of AlN–Al–V Multilayer Thin Films Fabricated by Reactive DC Magnetron Sputtering
Нет цитирований в Scopus.
3
Quantifying the surface modification induced by the argon cluster ion bombardment of KGd(WO4)2:Nd single crystal
Нет цитирований в Scopus.
4
Effect of Titanium and Molybdenum Cover on the Surface Restructuration of Diamond Single Crystal during Annealing
Нет цитирований в Scopus.
5
Visualization of Swift Ion Tracks in Suspended Local Diamondized Few-Layer Graphene
Нет цитирований в Scopus.
Рейтинг авторов по числу публикаций в Q1-Q2
i
Патенты / свидетельства
i
0
Количество патентов на изобретение
0
Количество патентов на полезную модель
0
Количество патентов на промышленный образец
0
Количество свидетельств о регистрации базы данных
0
Количество свидетельств о регистрации программ для ЭВМ